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日本セラミックス協会2017年年会において、坂元准教授が学術写真賞(優秀賞) を受賞しました。

2017年3月17日(金)~19日(日)に早稲田大学で開催された公益社団法人
日本セラミックス協会2017年年会において、坂元尚紀准教授(共同研究者:小金
達也氏、川口昂彦助教、脇谷尚樹教授、鈴木久男教授)が第42回学術写真賞
(優秀賞)を受賞しました。

受賞作品名
「三角平板状In2O3シード層によるYSZ上InNのエピタキシャル成長」

鈴木・脇谷・坂元研究室 HP:http://www.ipc.shizuoka.ac.jp/~tnsakam/

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